光刻机是半导体制造领域中非常重要的设备之一，它可以将芯片图案投射到硅片上，是制造芯片的关键步骤之一。随着半导体工艺的不断提升，光刻机制造技术也在不断进步，现在已经可以实现纳米级别的制造。

目前，全球半导体制造领域的主要光刻机厂商有荷兰ASML、日本尼康和佳能等，这些公司在技术上一直处于领先地位。但是，随着中国半导体产业的快速发展，国内光刻机制造技术也在不断提升。

据了解，中国已经在光刻机制造领域取得了一定的进展，目前国内的光刻机厂商包括中微半导体、华天科技、华锐微电子等。这些公司在技术研发和生产制造方面不断加大投入，通过不断创新和提高生产效率，已经能够生产出一些高性能的光刻机。

关于中国能否做到几纳米的制造，目前已经有相关的研究和实践。据报道，中微半导体已经成功制造出了一台分辨率达到2.5纳米的光刻机，并且已经开始向客户出货。华天科技也在不断研究和开发新的光刻机技术，通过提高设备的精度和稳定性，已经实现了3纳米的制造。华锐微电子也在光刻机领域进行了多年的研究和开发，目前已经拥有自主知识产权的光刻机产品，并且已经开始向客户销售。

可以预见的是，未来几年中国的光刻机制造技术将会得到更大的发展和提升，能够做到更小的纳米级别制造也将成为可能。这将进一步推动中国半导体产业的发展，为我国在全球半导体市场的竞争中赢得更大的优势。